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R2R 捲繞式鍍膜設備
R2R 捲繞式鍍膜設備

R2R 捲繞式鍍膜設備

應用領域：

  1. 光電業：觸控面板（ITO film、IM/ITO….等）。

  2. 紡織業：不織布鍍 Ag、Cu...等金屬薄膜。

  1. 基材尺寸：幅寛600mm~1800mm（客製化設備）。
  2. 基材材質：PET、PI、SUS、機能布....等可撓性基材。
  3. 基材厚度：12um~250um。
  4. 膜厚均勻性：U% ≦ ±3%。
  5. 基板溫度：低溫製程。
  6. 設備真空：~10-7 Torr。
  7. 糾邊精度：+/- 1mm。
  8. 靶機規格：平面靶、施轉靶等，依客戶需求配置。

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