真空設備/R2R 捲繞式鍍膜設備-荃合科技有限公司

Products產品介紹

R2R 捲繞式鍍膜設備

R2R 捲繞式鍍膜設備

應用領域：

光電業：觸控面板（ITO film、IM/ITO….等）。
紡織業：不織布鍍 Ag、Cu...等金屬薄膜。

基本規格
產品影片

基材尺寸：幅寛600mm~1800mm（客製化設備）。
基材材質：PET、PI、SUS、機能布....等可撓性基材。
基材厚度：12um~250um。
膜厚均勻性：U% ≦ ±3%。
基板溫度：低溫製程。
設備真空：~10^-7 Torr。
糾邊精度：+/- 1mm。
靶機規格：平面靶、施轉靶等，依客戶需求配置。